【產(chǎn)品簡(jiǎn)介】： 光學(xué)材料生產(chǎn)超純水設(shè)備概述，用于光學(xué)材料生產(chǎn)的超純水設(shè)備包括四個(gè)過(guò)程：洗滌、漂洗、脫水和干燥。因?yàn)榍逑催^(guò)程分為溶劑清洗和水基清洗，所以使用超純水設(shè)備有不同的過(guò)程：溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥然后水基清洗；還有溶劑清洗，然后用超純水設(shè)備乳化劑溶解溶劑，然后用水基清洗。在用超純水設(shè)備流水沖洗后，溶解并去除鏡片表面的洗劑和污垢的過(guò)程稱為沖洗。光學(xué)材料生產(chǎn)用超純水設(shè)備
一、光學(xué)材料生產(chǎn)超純水設(shè)備概述
用于光學(xué)材料生產(chǎn)的超純水設(shè)備包括四個(gè)過(guò)程：洗滌、漂洗、脫水和干燥。因?yàn)榍逑催^(guò)程分為溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的過(guò)程：溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥然后水基清洗；還有溶劑清洗，然后用乳化劑溶解溶劑，然后用水基清洗。在用流水沖洗后，溶解并去除鏡片表面的洗劑和污垢的過(guò)程稱為沖洗。
光學(xué)材料生產(chǎn)用超純水設(shè)備
手機(jī)面板、光學(xué)鏡頭、光學(xué)玻璃對(duì)超純水水質(zhì)的清潔要求較高，帶有電離子和灰塵會(huì)對(duì)鏡頭造成不可逆的損壞，終端水質(zhì)要求≥17.5MΩ*cm（25℃）。
2.光學(xué)材料生產(chǎn)用超純水設(shè)備水質(zhì)
手機(jī)面板、光學(xué)鏡頭、光學(xué)玻璃對(duì)超純水水質(zhì)的清潔要求較高，帶有電離子和灰塵會(huì)對(duì)鏡頭造成不可逆的損壞，終端水質(zhì)要求≥17.5MΩ*cm（25℃）。
3.光學(xué)材料生產(chǎn)的超純水設(shè)備技術(shù)
光電光學(xué)玻璃行業(yè)的超純水設(shè)備主要用于在玻璃清洗過(guò)程中為超聲波提供超純水。在用于鍍膜玻璃鏡片清洗的超純水設(shè)備的設(shè)計(jì)中，采用了成熟、可靠和高度自動(dòng)化的兩級(jí)RO+EDI+SMB脫鹽水處理工藝，以確保處理后的超純水的出水電阻率達(dá)到18.2 mΩ.cm。關(guān)鍵設(shè)備和材料均為主流可靠產(chǎn)品，采用PLC+觸摸屏控制，全套自動(dòng)化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。
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